金宏气体:氩气可用于深紫外光刻激光器中半导体芯片的最小特征的图案上
上证报中国证券网讯 金宏气体6日在互动平台上回答投资者提问时表示,氩气被用于等离子沉积和蚀刻工艺,还可用于深紫外光刻激光器中半导体芯片的最小特征的图案上。
上证报中国证券网讯 金宏气体6日在互动平台上回答投资者提问时表示,氩气被用于等离子沉积和蚀刻工艺,还可用于深紫外光刻激光器中半导体芯片的最小特征的图案上。
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