南大光电:公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证
上证报中国证券网讯 南大光电4月7日在互动平台回答投资者提问时表示,公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证。公司正在抓紧推进产品认证和市场拓展工作。后续若大面积量产会给公司带来积极影响。
上证报中国证券网讯 南大光电4月7日在互动平台回答投资者提问时表示,公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证。公司正在抓紧推进产品认证和市场拓展工作。后续若大面积量产会给公司带来积极影响。
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