二十年磨一剑 芯源微谱新篇——热烈庆祝公司成立二十周年暨浸没式高产能涂胶显影机新品发布会直播结束

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尊敬投资者，您好！感谢您的关注和支持，也祝您投资顺利，生活愉快！

芯源微的风格就是聚焦核心竞争力、踏踏实实、行稳致远。
芯源微的企业愿景是为客户创造价值，成为受社会尊重的世界级企业。我们对受社会尊重的世界级企业的定义理解是：首先收入规模上要达到10亿美元，其次要面向国际市场，不能只在大陆市场销售。第三要创新引领。
公司未来将致力于持续提高涂胶显影机的市场占有率，同时在核心技术领域内不断推出新产品，丰富公司的产品线。
在产能准备上，芯源微飞云路厂区产能持续饱满，沈阳彩云路厂区目前已经稳步达产。芯源微上海临港公司厂房计划在春节前完成封顶，并争取尽快投入使用。芯源微沈阳彩云路二期建设正在规划中，总体上来看，公司在2024年能够保障40亿以上的产能。

首先，友商想切入到涂胶显影领域也说明了涂胶显影市场空间广阔。其次，涂胶显影机长期被日本东京电子所垄断，全球市占率高达91%，为什么排在第二的DNS份额越来越小，AMAT、LAM这些大公司，他们在很多产品上都有交叉竞争，却没有切入到涂胶显影机来呢？
答案是术业有专攻！黄光设备不是谁都能做好的！
芯源微在涂胶显影领域十多年的技术积累、团队提升和供应链打造是我们的宝贵财富和坚强保障。
对标国际领先公司，舍我其谁？！

2022年12月17日是公司创立20周年，新产品前期也已完成了在客户端的验收，具备了发布条件。
同时，我们也是希望投资者对芯源微的未来发展充满信心。

目前国内越来越多的客户正在加速高端涂胶显影机的导入进程，公司新产品下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商。预计该机型明年可实现批量订单。

浸没式高产能涂胶显影机设备架构可以满足浸没式等多种工艺应用场合，并可以向下兼容。机台通过选配可全面覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺；同时机台可应用于其他旋涂类应用，包括SOC，SOH，SOD等技术应用场景，有效拓展了涂胶显影机的产品应用领域和市场空间。

新产品独创对称分布高产能架构，同时应用了自研机械手，协同效应良好。通过在机械手两侧对称布置工艺处理单元；创新双向同步取放机械手，可以同时从两侧工艺单元取放晶圆，大幅提升架构的机械传送产能和传送精度。此外，为匹配未来潜在的光刻机产能提升需求，机台可扩充更多处理单元，由目前36腔扩展为48腔。

这款新产品能覆盖国内28nm及以上所有工艺节点的生产线对TRACK的要求，能配合各种主流光刻机量产，即在光刻涂胶显影工艺，可实现100%国产替代，是芯源微发展的里程碑事件，将为芯源微的持续快速发展带来强劲动力。
2016年芯源微产品批量销售到台积电，2019年芯源微科创板上市，2022年芯源微高产能涂胶显影设备发布，每3年一大步。

此前，芯源微首台浸没式高产能涂胶显影机顺利运付客户现场，并已完成了硬件指标、干湿运行颗粒、光阻膜厚均匀性、显影线宽均匀性、光刻机联机、inline联机产能等各项验证。机台与国际主流光刻机联机作业，完成了客户端十余款光阻、多层layer量产验证，均达到客户量产指标。该机台已于近期顺利实现了验收。

（1）可以与所有主流光刻机联机作业，并高于光刻机产能
浸没式高产能涂胶显影机是芯源微的第三代机型，机台应用了完全自主知识产权的双工对称架构、使用双向高精机械手传送，搭载36spin工艺腔体，可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能，可以匹配所有主流光刻机联机量产。
（2）可以覆盖国内28nm及以上所有工艺节点
浸没式高产能涂胶显影机设备架构除了可以应用于浸没式工艺外，可以通过选配全面覆盖国内28nm及以上所有工艺节点，实现全面国产替代。
（3）具有高工艺能力、高洁净度、易维护性等特点
机台应用了自主研发的精确温度控制技术，热盘烘烤温度均匀性已达到业界领先水平，机台采用了全新Spin单元实时控制、配备了全系列功能单元等技术，可以实现稳定精准的工艺能力，同时可以将单次工艺所需的光刻胶使用量大幅降低，为客户节约成本。在洁净度方面，机台利用CFD仿真优化设计整机流场，有效提升了设备的洁净度等级，同时全新的结构设计还可以有效的节约维护成本。