二十周年谱新篇 芯源微浸没式高产能涂胶显影机通过客户验证

　　视频丨二十年磨一剑 芯源微谱新篇——热烈庆祝公司成立二十周年暨浸没式高产能涂胶显影机新品发布会

　　上证报中国证券网讯（记者 李兴彩）12月17日，芯源微召开浸没式高产能涂胶显影机新品发布会，并通过上证报路演平台进行线上直播。这也是公司创立二十周年之际，尤其是登陆科创板之后，再度给产业和投资者交出的一份优秀答卷。

　　芯源微介绍，本次发布的浸没式高产能涂胶显影机是公司独立研发的第三代产品。该机型采用公司独创的对称分布高产能架构，搭载公司自研的双向同步取放机械手和36个腔体（处理单元），可大幅提升整机的机械传送产能和传送精度，能够匹配全球主流光刻机联机生产。

　　前道涂胶显影设备是半导体生产的关键设备，也是本土半导体设备领域的“短板”。芯源微前道设计部总监程虎介绍，作为一种高速度、高精度、高洁净度的工艺设备，前道涂胶显影机的研发、量产涉及多学科集成和多专业协作，需要设备商长时间的技术储备和验证数据积累。

　　记者了解到，涂胶显影机的发展跟随光刻技术进步，未来，光刻技术将呈现两大发展趋势，一是光刻工艺涂层增多，比如需要增加抗反射涂层；二是光刻机产能不断提升。为了配合光刻机产能，涂胶显影机产能配备通常高出光刻机10%，这也就意味着，涂胶显影机内单元种类和数量、传输用机械手都将大幅增加。

　　“目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求。”在发布会上，程虎透露，为应对未来光刻机产能的不断提升，公司本次发布的机型还可扩展至48腔，产能达到360片/小时，可在低占地面积下兼顾机台易维护性，有效提升机台维护效率。

　　资料显示，芯源微于2002年由中科院沈阳自动化所发起创立，经过17年的努力，公司于2019年12月登陆科创板，成为辽宁省科创板第一股，也是国内光刻工艺设备第一股。得益于在涂胶显影领域的深厚积累，公司已将业务扩展到单片式湿法设备（包括清洗、湿法刻蚀、去胶等），主要客户包括台积电、中芯国际、上海华力、长江存储、士兰微、青岛芯恩、华天科技、长电科技、三安光电等海内外知名半导体制造商。